دراسة معاملات التدريع الاشعاعي لأشعة جاما لزجاج السيليكات المحتوي على أكسيد الرصاص واكسيد البزموث عالي التركيز

الملخص

    تهدف هذه الدراسة إلى مقارنة بارامترات التوهين (معامل التوهين الكتلي MAC، طبقة نصف القيمة HVL، العدد الذري الفعال   والكثافة الالكترونية الفعالة  )؛ لعينتين من زجاج السيلكون المحتوي على أكسيدي الرصاص والبزموث ذات التركيب 70Bi₂O₃ – 20SiO₂ – 7Al₂O₃ – 3Na₂SO₄ للعينة الأولى، والتركيب 70PbO – 20SiO₂ – 7Al₂O₃ – 3Na₂SO للعينة الثانية.

باستخدام برامج المحاكاة Phy-X/ PSD وX-COM في مدى من الطاقات المختلفة (2.580x10^-3 to 3 MeV) التي تحوي قيم طاقة أشعة جاما المنبعثة من عنصري السيزيوم 137 والكوبالت 60؛ لمعرفة تأثير استبدال أكسيد البزموث بأكسيد الرصاص على معاملات التوهين. أهمية اختيار هذه العناصر المشعة يرجع؛ لاستخداماتهم الواسعة في المجالات الطبية والصناعية بالإضافة إلى مجالات البحث العلمي.

 أظهرت الناتج أن العينة (1) تتمتع بقيم معامل توهين كتلي أفضل عند الطاقات (0.284: 0.826 MeV) من العينة (2)، وهذا يرجع إلى قيمة العدد الذري الفعال العالية للعينة (1) عن العينة (2)، أما عند الطاقات (1.17 & 1.33 MeV) كانت النتائج متقاربة جداً من بعضها، ويتساوى معامل التوهين الكتلي للعينتين عند القيمة 2.51 MeV، ولكن تبقى الأفضلية للعينة (1) بطبقة نصف القيمة أقل عند جميع الطاقات عن العينة (2). بينت نتائج محاكاةX-COM أن تفاعل كومبتون كان له الدور الأكبر في عملية التوهين عند الطاقات المدروسة، بينما لم تساهم تفاعلات التأثير الكهروضوئي والإنتاج الزّوجي بفاعلية كبيرة في عملية التوهين